1.開口度及開口型:開口度是指患者大張口時,上下中切牙切緣之間的垂直距離,可用雙 腳規(guī)或游標(biāo)尺測量;正常的開口型下頜向下后方,左右無偏斜,正面觀直向下。
2.下頜側(cè)方運動:下頜最大側(cè)方運動范圍正常情況下約為 12 mm。
3.口腔修復(fù)前的一般處理(急拆衛(wèi)?。?(1)處理急性癥狀。(2)保證良好的口腔衛(wèi)生。(3)拆除不良修復(fù)體。(4)治療和控制齲病及牙周病。
4.余留牙的保留與拔除:對于牙槽骨吸收達(dá)到根 2/3 以上,牙松動達(dá)Ⅲ度者應(yīng)拔除。
5.對雙側(cè)上頜結(jié)節(jié)肥大的情況,常常只需修整一側(cè)上頜結(jié)節(jié),解決妨礙義齒就位的問題即 可。
6.抗力形是指在完成修復(fù)后,要求修復(fù)體和患牙均能抵抗力而不致被破壞或折裂。
7.設(shè)計齦下邊緣時,要注意修復(fù)體邊緣的密合、拋光,防止形成懸突,而且冠邊緣不要到 達(dá)齦溝底,一般要求齦邊緣距齦溝底至少 0.5 mm。
8.為了便于修復(fù)體的取戴,各軸面可向切方稍許聚合,以 2°~5°為宜。
9.影響?zhàn)ぶΥ笮〉囊蛩?(1)黏著力與黏著面積成正比。(2)黏著力與黏固劑的厚度成反比。(3)黏固劑的稠度應(yīng)適當(dāng),過稀過稠都影響?zhàn)ぶΑ#?)修復(fù)體或制備牙的黏著面上有水分、氧化物、油質(zhì)殘渣等異物,都會影響?zhàn)ぶΑ?nbsp;
10.樁核冠修復(fù)的適應(yīng)證 (1)牙冠大部分缺損無法充填治療或做全冠修復(fù)固位不良者。(2)牙冠缺損至齦下,牙周健康,牙根有足夠的長度,經(jīng)牙冠延長術(shù)或正畸牽引術(shù)后能暴 露出斷面以下最少 1.5 mm者。(3)錯位牙、扭轉(zhuǎn)牙而非正畸治療適應(yīng)證者。(4)作固定義齒的固位體的殘冠殘根。
11.根管充填后選擇樁核冠修復(fù)的時間,參考治療情況和全身狀況而定。(1)有根尖周炎的患者一般完善的根管治療后,觀察 1~2 周,無臨床癥狀后可以開始修 復(fù)。(2)原牙髓正?;蜓浪柩孜蠢奂案庹撸^察時間可短,根管治療 3 天后無癥狀,可開 始修復(fù)。(3)有瘺管的患牙需在治療愈合后進(jìn)行修復(fù)。(4)如果根尖病變較廣泛者,需在治療后觀察較長時間,待根尖病變明顯縮小,形成骨 硬板后才能修復(fù)。
12.關(guān)于金瓷結(jié)合的機(jī)制有四種結(jié)合方式:①化學(xué)結(jié)合;②機(jī)械結(jié)合;③壓應(yīng)力結(jié)合;④ 范德華力結(jié)合。其中化學(xué)結(jié)合被大多數(shù)研究者認(rèn)為是金瓷結(jié)合中最主要、最關(guān)鍵的結(jié)合機(jī)制。
13.樁核冠的樁的長度:為確保根管治療效果和預(yù)防根折,一般要求根尖部保留 4 mm 的充 填材料,樁的長度為根長的 2/3~3/4。
14.對于根比較短的情況,應(yīng)盡量保證讓樁核冠的樁的長度大于等于臨床冠的長度,并且保 證樁處于牙槽骨內(nèi)的長度大于根在牙槽骨內(nèi)的總長度的 1/2。
15.理想的樁直徑應(yīng)為根徑的 1/3,最好不要超過 1/2。
16.樁核冠的冠邊緣以上的大于 1.5 mm 的牙本質(zhì)稱為牙本質(zhì)肩領(lǐng)。
17.印模時,托盤內(nèi)面與組織面之間有 3~4 mm 間隙,托盤邊緣止于黏膜皺襞 2 mm。
18.冠就位的標(biāo)志 (1)冠的齦邊緣到達(dá)設(shè)計的位置,有肩臺預(yù)備的頸緣應(yīng)與冠邊緣密合,無明顯縫隙。(2)制備良好的人造冠就位后,咬合應(yīng)基本合適,或稍加修整即合適。(3)人造冠在患牙上就位后不出現(xiàn)翹動現(xiàn)象。
19.人造冠邊緣與牙體組織間無明顯縫隙,允許的微小間隙不超過 50 μm。
20.粘固劑厚度:其最大厚度一般不得超過 30 μm,否則會增加厚度而使修復(fù)體粘固后加高 咬合。
21.修復(fù)體粘固后短期內(nèi)出現(xiàn)咬合痛,多是由咬合創(chuàng)傷引起。
22.上頜牙槽嵴吸收的方向是向上、向內(nèi),上頜骨的外形逐漸縮小。下頜牙槽嵴的吸收方向 是向下、向外,結(jié)果使下牙弓外形逐漸變大,上下頜間距離減短,面下 1/3 距離也隨之變 短。
23.腭小凹:上頜全口義齒的后緣應(yīng)在腭小凹后 2 mm 處。
24.顫動線:前后顫動線之間稱后堤區(qū)。此區(qū)寬 2~12 mm,平均 8.2 mm,有一定的彈性, 能起到邊緣封閉作用。
25.翼上頜切跡:為上頜全口義齒后緣的界限。
26.磨牙后墊:下頜全口義齒后緣應(yīng)蓋過磨牙后墊 1/2 或全部。磨牙后墊可作為指導(dǎo)排列 人工后牙的標(biāo)志。從垂直向看磨牙后墊可決定下頜平面的位置。下頜第一磨牙的面應(yīng)與磨牙 后墊的 1/2 等高。從前后向看,下頜第二磨牙應(yīng)位于磨牙后墊前緣。從頰舌向看,磨牙后 墊頰面、舌面向前與下頜尖牙的近中面形成一個三角形,一般情況下,下頜后牙的舌尖應(yīng)位于此三角形內(nèi)。
27.模型邊緣厚度以 3~5 mm 為宜,模型最薄處也不能少于 10 mm。
28.模型后緣應(yīng)在腭小凹后不少于 2 mm,下頜模型在磨牙后墊自其前緣起不少于 10 mm。
29.模型形成的方法有圍模灌注法和二次灌注法兩種。
30.確定垂直頜位關(guān)系的方法 (1)息止頜位法。(2)面部外形觀察法。(3)面部垂直距離等分法。(4)拔牙前垂直距離的記錄。(5)舊義齒垂直距離的記錄。
31.上前牙的位置要襯托出上唇豐滿度,要達(dá)到此要求有以下幾點可作參考:(1)上前牙唇面至切牙乳突中點一般 8~10 mm。(2)年輕人,上尖牙頂連線通過切牙乳突中點,而老年人上尖牙頂連線與切牙乳突后緣平 齊。(3)上尖牙的唇面通常與腭皺的側(cè)面相距 10.5±1 mm。(4)上前牙切緣在唇下露出 2 mm,年老者露的較少。
32.缺牙區(qū)傷口愈合:一般在拔牙后 3 個月,待拔牙創(chuàng)口完全愈合,牙槽嵴吸收基本穩(wěn)定后 制作固定義齒。
33.缺牙區(qū)牙槽嵴吸收:牙槽嵴吸收過多的后牙區(qū),可設(shè)計衛(wèi)生橋。
34.固定義齒的組成及各部分的作用 (1)固位體:是指粘固于基牙上的嵌體、部分冠、全冠等。(2)橋體:即人工牙,是固定橋修復(fù)缺失牙形態(tài)和功能的部分。(3)連接體:是固定橋橋體與固位體之間的連接部分。
35.固定義齒的基牙臨床冠根比例以 1∶2~2∶3 較為理想;1∶1 是選擇基牙的最低限度。
36.固定義齒在選擇基牙時,應(yīng)從 X 線片上檢查基牙牙槽骨的骨質(zhì)致密度和牙槽骨有無吸收。若牙槽骨的吸收超過根長的 1/3,就不宜選作基牙。
37.固定義齒以固定義齒的基牙決定基牙的數(shù)量:Ante 曾提出固定橋基牙牙周膜面積的總和 應(yīng)等于或大于缺失牙牙周膜面積的總和,即基牙的數(shù)量應(yīng)根據(jù)基牙與缺失牙牙周膜面積的大 小來衡量。
38.固定義齒的基牙傾斜要小于 30°。
39.懸空式橋體:橋體與黏膜不接觸,留有至少固定義齒的基牙以上的間隙。
40.固定連接體的設(shè)計:其截面積不小于 4 mm2。
41.基托厚度:塑料基托一般厚約 2 mm。鑄造金屬基托厚約 0.5 mm。
42.卡環(huán)的結(jié)構(gòu)和各部分的作用:以三臂卡環(huán)為例,由卡環(huán)臂、卡環(huán)體、支托三部分組成。(1)卡環(huán)臂:卡環(huán)臂尖位于倒凹區(qū),產(chǎn)生固位作用,可防止義齒向脫位。(2)卡環(huán)臂起始部分較堅硬,位于非倒凹區(qū)起穩(wěn)定作用,防止義齒側(cè)向移位。(3)卡環(huán)體:為連接卡環(huán)臂、支托及小連接體的堅硬部分,位于基牙軸面角的非倒凹區(qū), 有穩(wěn)定和支持義齒的作用。(4)支托:是卡環(huán)伸向基牙面而產(chǎn)生支持作用的部分,防止義齒齦向移位。
43.可摘局部義齒的禁忌證 (1)缺牙間隙過窄,義齒強(qiáng)度不夠。(2)基牙呈錐形,固位形態(tài)過差,義齒不能獲得足夠的固位力。(3)因意識或精神障礙,或行動障礙而生活不能自理的患者,患者易將義齒誤吞。(4)口腔黏膜潰瘍經(jīng)久不愈者。
44.RPA 卡環(huán)組與 RPI 卡環(huán)組的不同點是以圓環(huán)形卡環(huán)的固位臂代替Ⅰ桿。
45.前腭桿:位于上頜硬區(qū)之前,腭皺襞之后,薄而寬,與黏膜組織密合但無壓力,離開齦 緣至少 6 mm。
46.后腭桿:位于上頜硬區(qū)之后,顫動線之前,兩端微彎向前至第一、第二磨牙之間。
47.側(cè)腭桿:位于上頜硬區(qū)的兩側(cè),離開齦緣應(yīng)有 4~6 mm,并且與牙弓平行。
48.舌桿:上緣離開牙齦緣至少 3~4 mm。舌桿適用于口底有一定深度,舌側(cè)無明顯倒凹者。
49.基牙倒凹的深度和坡度:坡度越大固位越好,標(biāo)準(zhǔn)倒凹深度應(yīng)小于 1 mm,倒凹的坡度 一般應(yīng)大于20°。
50.牙列缺損的 Kennedy 分類 第一類:雙側(cè)缺隙位于余留牙的遠(yuǎn)中,即雙側(cè)遠(yuǎn)中游離缺失。第二類:單側(cè)缺隙位于一側(cè)余留牙的遠(yuǎn)中,即單側(cè)遠(yuǎn)中游離缺失。第三類:缺隙位于牙弓一側(cè),缺隙前后均有余留牙,即單側(cè)非游離缺失。第四類:單個越過中線的缺隙,位于所有余留牙的近中。
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